光源通过反光镜镜头组，集光再反投到掩膜板上。

掩膜板就是电路图反刻，从实验室里刻出来的，光透过掩膜板透明的部分投放到硅片上，曝光几十毫秒后，通过化学反应弄出硅片上的电路图。

掩膜板主要是玻璃片，上面刻有预想的电路，然后放在机器上曝光，刻到硅片上看效果。

光刻机光源从六十年代初到八十年代中期，汞灯已用于光刻，其波长分别为436nmg线、405nmh线和365nmi线。

随着半导体行业对更高分辨率集成度更高和速度更快的芯片和更高产量更低成本的需求，基于汞灯光源的光刻工具已不再能够满足半导体业界的高端要求，kr248nm和ar193nm准分子激光器应运而生，对镜头、掩膜版和光刻胶的要求更高。

随着芯片制程工艺的提升，光刻机成为半导体行业发展的关键设备。

虽然受到《日美半导体协议的影响，日本半导体如今失去了美国市场，但代表世界光刻机最高水平的尼康光刻机还在不断进步，ii、amd和hp等半导体设备公司派业务代表，长期住在尼康半导体设备公司，翘首以盼最先进的光刻机出厂。

如今，尼康光刻机占据光刻机市场的40%，垄断了高端光刻机市场，佳能光刻机占20%，svg、gca和ultratal、p＆e、eaton和日立等光刻机公司，每家占据的市场份额都不到5%。

日本光刻机设备公司在光刻机市场独占鳌头！

美国光刻机公司每况愈下。

重生者知道，前世光刻机高端市场被后起之秀asml垄断！

赢者通吃！

由于asml效益不佳，年年亏损，去年九月，飞利浦半导体公司将其持有的30%asml股份，以2000万美元的价格转让给曙光投资公司，让曙光投资公司控股。