返回第204章 喜报频传,芯片材料遥遥领先  科技公司,我成国产之光!首页

上一页 目录 下一章

沿。

一米八,接近一米九的壮汉杨烈此时拿着16寸半导体硅片,兴致勃勃地介绍道:

“16寸的半导体硅片相比较于12寸大了4寸,直径达到了40CM,假设切割的芯片裸片尺寸是1.6×1.6CM,那么它一共可以切出475枚芯片裸片,比12寸半导体硅片多了243枚。”

多出243枚什么概念?

陈星曾经可是了解过的,无论是6寸、8寸还是12寸半导体硅片,它们的生产步骤完全相同。

同样的提纯,同样的掺杂,同样的提拉,同样的打磨……

这也就是说,在成本几乎相同的情况下,龙兴硅业生产的16寸半导体硅片能比市面上的12寸半导体硅片多产出243枚。

“还有一点!”

在陈星内心掀起骇浪时,杨烈继续说道:“韩铭还改良了提纯工艺,这批次的半导体硅片纯净度达到了15N!”

“嘶!”

15N???

陈星不由得倒吸一口凉气,这已经完全出乎他预料了。

15N的纯度,如果翻译成百分比就是99.9999999999999%,足足15个9,要知道,每个9的出现都代表里面的杂质进一步减少,而目前市面上主流的硅片,它们纯度只能达到11N,也就是11个9。

在沉思过后,陈星看向杨烈道:“16寸半导体硅片向莞城那边供应了吗?”

“还没有。”

杨烈刚说完,又补充道:“刚刚做好就给你微信了,我们只提供了15N的12寸半导体硅片。”

闻言,陈星点了点头,随即叮嘱道:“16寸硅片的事情不能泄露出去,目前还是以12寸硅片生产为主,现在还不是摊牌的时候,知道的人越多,越容易走漏风声。”

“我明白了。”

杨烈点了点头。

在叮嘱完杨烈韩铭,以及龙兴硅业的其他人才后,陈星便来到了隔壁不远处的龙兴化工厂。

化工厂不同于硅业工厂,这里弥漫着刺鼻的味道。

破解光刻胶,以及配套试剂应有的成分,这对于科研工程师来说只能不断尝试。

早早在门口等待的朱明月见陈星到来,立马递上过滤口罩道:“总裁快请进。”

陈星接过口罩戴上,便跟随他走进化工厂。

化工厂真不比硅业工厂,刺鼻的味道闻久了都感觉会折寿,全是化学试剂的刺鼻味。

在穿过调配区,朱明月带陈星来到了他的办公室,关上房门并打开过滤抽风机。

不一会。

两人都摘下了口罩。

朱明月从办公室保险箱,拿出数瓶约摸550毫升罐装可乐大小的密封罐子道:

“1号ArF光刻胶,曝光波长:193nmIMM,技术节点及应用:N40nm-7nmPTDL/S,工艺能力CD:0.063um,工艺能力THK:0.16-0.24um。”

“翻译一下。”

虽然陈星是重生者,又带有国产之光系统,但这并不代表他是万能的,光刻胶他可没学过。

朱明月闻言,淡淡一笑解释道:“曝光波长193纳米,说明它支持193深紫外光,也就是DUV光刻机的曝光,技术节点及应用N40纳米-7纳米PTDL/S,可用于40纳米到7纳米芯片的生产。”

“工艺能力CD:0.063um是分辨率,而工艺能力THK:0.16-0.24um则是涂抹厚度。”

陈星理解能力很强,在听了讲解以后,立马抓住重点道:“也就是说,这是一款足以支持7纳米芯片生产使用的光刻胶?”

“是的。”

朱明月点了点头,继续抛出这款光刻胶的底细道:“因为考虑到我们没有EUV光源,所以这款光刻胶曝光波长设计在193。”

“如果要用一句话概括,那就是这款光刻胶是我专门为多重曝光技术而设计的产品。”


加入书签 上一页 目录 下一章