速度是很快的，每小时出片两百张以，完全不存在任何问题。

制约产能的主要是沉积设备，PVD和CVD这类，其次是刻蚀设备包括ICP，CCP，DIE这几种机台，另外热处理设备工作效率也十分感人。

一条月产能一万片十二寸晶圆的fab制造线，光刻机或许只有四五台，但刻蚀机，却起码要有六十台起步，如果想要追求高效率，甚至要堆一百台以的刻蚀机。

目前，中微半导体的介质刻蚀技术，硅通孔刻蚀技术，位列全球前三，全球最牛的半导体代工厂台积电，生产线就有成百千台来自中微的刻蚀机，算是国产半导体行业里比较争气的存在。

“成了！”

“一次出片成功，比我预想的还要顺利！”

“不愧是昆仑集团啊，临时加进来的光学系统，竟然和旧机台配合的这么好！”

实验室里，穿着全套无尘服的工程师，取下十二寸硅晶圆，仔细看，会发现面出现了密密麻麻，无比繁杂的线条，灯光下亮晶晶的，甚是喜人。